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Hakuto (NS) 離子蝕刻機

Hakuto NS 日本原裝設計制造離子刻蝕機, 提供微米級刻蝕, 滿足所有材料的刻蝕, 即使對黃金 AU, 鉑 PT, 合金等金屬及半導體材料也能提供最優蝕刻. 適用于 MR 薄膜磁頭, 自旋電子學, 應力傳感器, 射頻濾波器, 超導體, 復合半導體材料的刻蝕. NS 蝕刻機可配置德國 Pfeiffer 渦輪分子泵和美國 KRI 考夫曼離子源!

Hakuto (NS) 離子蝕刻機

Hakuto (NS) 離子蝕刻機對磁性材料, 黃金, 鉑和合金金屬提供最佳蝕刻技術. 適合做各種材料的蝕刻.

型號

NS 7.5IBE

NS 10IBE

NS 20IBE-C

NS 20IBE-J

適用范圍

適用于科研院所,實驗室研究

適合小規模量產使用和實驗室研究

適合中等規模量產使用的離子刻蝕機

適合大規模量產使用的離子刻蝕機

基片尺寸

Φ4 X 1片或
Φ6 X 1片

φ8 X 1片

φ3 inch X 8片
φ4 inch X 6片
φ8 inch X 1片

Φ4 inch X 12片
φ5 inch X 10片
φ6 inch X 8片

NS 離子蝕刻機 7.5IBE

小型離子蝕刻機,適用于科研院所,實驗室研究

NS 離子蝕刻機 10IBE

小型離子蝕刻機,適合小規模量產使用和實驗室研究

NS 離子蝕刻機 20IBE-C

適合中等規模量產使用的離子刻蝕機

 

NS 離子蝕刻機 20IBE-J

適合大規模量產使用的離子刻蝕機

 

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