霍爾離子源 eH 200
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霍爾離子源 eH 200

KRI 霍爾離子源 eH 200
上海伯東代理美國原裝進口 KRI 霍爾離子源 eH200 是霍爾離子源型 eH 系列中尺寸最小, 低成本設計離子源. 霍爾離子源 eH200 適用于小型真空腔內, 例如研發分析, 薄膜沉積和離子清洗. 霍爾離子源 eH200 操作簡單是理想的生產工具.

KRI 霍爾離子源 eH 200 技術參數:

型號

eH 200

供電

DC magnetic confinement

  - 電壓

40-300V VDC

  - 離子源直徑

~ 2 cm

  - 陽極結構

模塊化

電源控制

eHx-3005A

配置

-

  - 陰極中和器

Filament or Hollow Cathode

  - 離子束發散角度

> 45° (hwhm)

  - 陽極

標準或 Grooved

  - 水冷

  - 底座

移動或快接法蘭

  - 高度

2.0'

  - 直徑

2.5'

  -加工材料

金屬
電介質
半導體

  -工藝氣體

Ar, Xe, Kr, O2, N2, Organic Precursors

  - 安裝距離

6-24”

  - 自動控制

控制4種氣體

* 可選: 可調角度的支架; Filamentless; Sidewinder

KRI 霍爾離子源 eH 200 應用領域:
濺鍍和蒸發鍍膜 PC
輔助鍍膜(光學鍍膜)IBAD
表面改性, 激活 SM
直接沉積 DD

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