KRI 考夫曼離子源 KDC 系列
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KRI 考夫曼離子源 KDC 系列

美國 KRI 考夫曼離子源 Gridded KDC 系列
上海伯東美國原裝進口考夫曼離子源 KDC 系列, 加熱燈絲產生電子, 是典型的考夫曼型離子源, 增強設計輸出高質量, 穩定的電子流.
美國 KRI 考夫曼公司新升級 Gridded KDC 系列離子源, 新的特性包含自對準離子光學和開關式電源控制. 考夫曼離子源 KDC 系列包含多種不同尺寸的離子源滿足各類應用. 考夫曼離子源 KDC 提供一套完整的方案包含考夫曼離子源, 電子中和器, 電源供應器等等可以直接整合在各類真空設備中, 例如實驗室小型研發, 鍍膜機, load lock, 濺射系統, 卷繞鍍膜機和線性鍍膜.

美國 KRI 考夫曼離子源 KDC 特性:
通過加熱燈絲產生電子
低電流高能量寬束型離子源

美國 KRI 考夫曼離子源 KDC 應用:
輔助鍍膜(光學鍍膜) IBAD
濺鍍&蒸鍍 PC
表面改性, 激活 SM
沉積 DD
離子濺射沉積和多層結構 IBSD
離子蝕刻 IBE
 

美國 KRI 考夫曼離子源 KDC 技術參數:

型號

KDC 10

KDC 40

KDC 75

KDC 100

KDC 160

Discharge 陽極

DC 電流

DC 電流

DC 電流

DC 電流

DC 電流

離子束流

>10 mA

>100 mA

>250 mA

>400 mA

>650 mA

離子動能

100-1200 V

100-1200 V

100-1200 V

100-1200 V

100-1200 V

柵極直徑

1 cm Φ

4 cm Φ

7.5 cm Φ

12 cm Φ

16 cm Φ

離子束

聚焦, 平行, 散射

 

流量

1-5 sccm

2-10 sccm

2-15 sccm

2-20 sccm

2-30 sccm

通氣

Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他

典型壓力

< 0.5m Torr

< 0.5m Torr

< 0.5m Torr

< 0.5m Torr

< 0.5m Torr

長度

11.5 cm

17.1 cm

20.1 cm

23.5 cm

25.2 cm

直徑

4 cm

9 cm

14 cm

19.4 cm

23.2 cm

中和器

燈絲


1978 年 Dr. Kaufman 博士在美國創立 Kaufman & Robinson, Inc 公司, 研發生產考夫曼離子源, 霍爾離子源射頻離子源. 美國考夫曼離子源歷經 40 年改良及發展已取得多項專利. 離子源廣泛用于離子清洗 PC, 離子蝕刻 IBE, 輔助鍍膜 IBAD, 離子濺射鍍膜 IBSD 領域, 上海伯東是美國考夫曼離子源中國總代理.

若您需要進一步的了解考夫曼離子源, 請參考以下聯絡方式
上海伯東: 葉小姐                                  臺灣伯東: 王小姐
T: +86-21-5046-3511 ext 109             T: +886-3-567-9508 ext 161
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